Influencia de la razón R[SIH2CL2/NH3] en la intensidad y posición de los picos de fotoluminiscencia de películas de nitruro de silicio ricas en silicio obtenidas por PECVD
Sinodales:
GUILLERMO SANTANA RODRIGUEZ;
Autores:
Santiago Cruz, Félix
Tipo de tesis:
Tesis de Maestría
Entidad presentadora de examen profesional:
Instituto de Investigaciones en Materiales
Entidades por adscripción en la UNAM:
Instituto de Investigaciones en Materiales;
GUILLERMO SANTANA RODRIGUEZ;
Autores:
Santiago Cruz, Félix
Tipo de tesis:
Tesis de Maestría
Entidad presentadora de examen profesional:
Instituto de Investigaciones en Materiales
Entidades por adscripción en la UNAM:
Instituto de Investigaciones en Materiales;
Fuente:
